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立式管式炉

1000℃立式管式炉
1000℃立式管式炉
型号:KJ-VT1000-60
用途:主要适用于大专院校实验室、工矿企业实验室,用于金属、陶瓷等的化学分析、物理测定、烧结溶解、小型刚性零件的加热、焙烧、热处理等。
流化床立式管式炉
流化床立式管式炉
型号:KJ-T1200-V100
用途:KJ-T1200-V是一款流化床立式管式炉,专门针对粉末表面沉积的CVD实验,炉管为高纯石英异形管,炉管内部嵌有一多孔石英板,石英板的孔径为0.2mm.粉末可放在多孔石英板上,气体可从炉管下端通入,通过多孔石英板使样品颗粒悬浮在加热区域,进行沉积实验。
真空管式热压炉
真空管式热压炉
型号:KJ-1200T-R
用途:适用于粉末冶金、功能陶瓷等新材料的高温热成型,如应用于透明陶瓷、工业陶瓷等金属以及由难熔金属组成的合金材料的真空烧结以及陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高温烧结,也可用于粉末或压坯在低于主要组分熔点的温度下的热处理。
管式淬火炉
管式淬火炉
型号:KJ-T1700-V
用途:用于实验室研究材料相变和微结构性能。
1200℃真空热压机
1200℃真空热压机
型号:KJ-T1200-S100
用途:此款设备专门设计在真空或是气体保护环境下对粉体或是多层晶片进行压制。
立式管式炉
立式管式炉
型号:KJ-M1200L-FT10
用途:应用于小型钢件的淬火、退火、回火热处理,以及立式CVD镀膜等。
流化床管式炉
流化床管式炉
型号:KJ-L1000-DZ
用途:适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、二维材料生长、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。
1600℃小型立式高温管式炉
1600℃小型立式高温管式炉
型号:KJ-T1600-S5006LK1-L
用途:KJ-T1600-S5006LK1-L系列小型立式管式炉是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属,非金属及其它化合物进行烧结﹑熔化﹑分析而研制的专用理想设备。气体可从炉管下端通入,通过多孔石英板使样品颗粒悬浮在加热区域,进行沉积实验
1200℃立式管式气氛炉
1200℃立式管式气氛炉
型号:KJ-T1200-S5010LK1-L
用途:KJ-T1200-S5010LK1-L系列管式炉适用于院校实验室,工矿企业实验室,供化学分析,物理测定以及金属,陶瓷等的烧结和溶解,小型钢件等加热,焙烧,热处理用
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