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高温气氛炉
高温气氛炉
型号:KJ-A1400-12LZ
用途:此设备广泛应用于硬质合金、陶瓷、粉末冶金等材料在粗真空状态、还原性气氛、保护气氛下的热处理。另配置我司自主研发的触屏控制系统,提高工作效率。炉膛可根据用户实际需求加工定制。
旋转管式炉
旋转管式炉
型号:KJ-T1400-X
用途:专为无机化合物的烧结而设计,如矿物颗粒和电池材料,具有更好的均匀性。
触屏三温区管式炉
触屏三温区管式炉
型号:KJ-T1200-3W
用途:主要用于制备稀土、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等工业真空烧结、保护气氛烧结、真空沉积、CVD实验、 材料成分测量场合。
六温区自动进出料旋转管式炉
六温区自动进出料旋转管式炉
型号:KJ-R150*1800-1000
用途:自动进出料旋转管式炉适用于短时间加热的物料处理。首先将设备开始加热达到目标温度,然后将炉体调整一定倾斜角度,开启进料铰刀将物料连续送入炉管,物料穿过工作管的加热区,从另一端进入到储料罐内。热处理时间的长短取决于炉管的倾斜度、旋转速度、炉管长度以及物料的流动性。
三温区自动进出料旋转管式炉
三温区自动进出料旋转管式炉
型号:KJ-R1400-140IC
用途:该旋转管式炉是一种具有特殊旋转和倾斜功能的高温反应器。 专为无机化合物的烧结而设计,如矿物颗粒和电池材料,具有更好的均匀性。 多加热区、冷凝器和尾气收集装置可根据不同实验选配。
PECVD系统
PECVD系统
型号:KJ-T1200-PE
用途:适用于室温至1200℃条件下进行SiO2、SiNx薄膜的沉积,同时可实现TEOS源沉积,SiC膜层沉积以及液态气态源沉积其它材料,尤其适合于有机材料上高效保护层膜和特定温度下无损伤钝化膜的沉积。
管式炉(带蒸汽发生器)
管式炉(带蒸汽发生器)
型号:KJ-T1200-S100X
用途:LOL赛事买输赢KJ-T1200-S100X管式炉的炉体配有双层壳体,配有冷风系统,自动降温,使炉壳温度不超过45℃,炉膛采用日本技术真空吸附成型的优质高纯氧化铝多晶纤维固化炉膛,材料保温性能好、反射率高、温场均衡。该炉子是科研机构和高校实验室的最佳选择。
三温区倾斜旋转管式炉
三温区倾斜旋转管式炉
型号:KJ-R1300-DX
用途:该旋转管式炉由围绕圆柱形腔体的加热线圈/棒组成,其中温度由热电偶控制。 旋转管式炉可提供单区或多区分体式设计。 它们也可用于连续式或间歇式旋转管式炉。 管式炉可配备两个或多个加热区,可产生高达 1300°C 的温度。 一般设计将根据工艺温度、产量、气氛要求、材料特性、冷却要求等而有所不同。
生物质热解装置
生物质热解装置
型号:KJ-BPU
用途:生物质热解机组采用半自动流水线方式,实现进料同时出料,可收集碳、生物质油等,尾端装有自动点火装置,进行成分测试接口和气体测量装置。
1600 CVD 系统
1600 CVD 系统
型号:KJ-T1600 CVD
用途:此款CVD生长系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。
井式坩埚炉
井式坩埚炉
型号:KJ-V1200-2LG
用途:主要用于金属、非金属及化合物材料进行烧结、融化、分析。控制面板配有智能温度调节仪,控制电源开关、主加热工作/停止按钮,以便随时观察。
工业高温箱式炉
工业高温箱式炉
型号:KJ-M1700-512L
用途:该箱式炉炉体机构采用双层钢制外壳,双冷却风扇,炉壳温度低于60℃。炉衬采用两层陶瓷纤维绝缘材料,保温效果好。节能40%以上,升温速度快,温场均匀。800*800*800cm的大炉膛可以满足中试生产与大工件热处理的需求。
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